本品是由多种高效、环保清洗材料复合而成，对蚀刻或灰化后沉积在半导体基板或介电材料层上的残留物（光刻胶残留物、有机金属化合物、金属氧化物、金属氮化物等）有优异的清洁能力，而对曝露的衬底材料无腐蚀。

a) 高效性：快速溶解各种残留物并使其脱落，操作简单方便。

b) 安全性：对曝露的衬底材料无腐蚀。

C)环保性：不含氨氮和磷等禁用物质，易降解，属于环保型产品。 

根据实际工作条件，可采用浸泡清洗、超声波清洗等使用方法，一般建议采用原液加温至40℃～65℃使用，清洗时间可根据实际情况控制在3min～15min左右；清洗完成后用去离子水后超纯水清洗，清洗的次数和时间由现场工艺要求来决定。